金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层(深干扰层)露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。 去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光,通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 |
抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程, 初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕,获取平整的样品表面, 终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕,达成完美光滑观测面。 |
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预抛时底部由硬质磨盘支撑,金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层(深干扰层) | 预抛时底部由软质织物支撑,金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层(深干扰层) |
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