金相制样的终极目的就是制备平整镜面，用于腐蚀后观测，或者直接观测。磨抛的重要性显而易见。抛光是制样的阶段的最后一步，也是最为重要和关键的一步。

　　无划痕是磨抛步骤的关键衡量指标，而划痕其实是样品表面光洁度的一个指标，划痕只有粗细之分，绝对的无划痕是不存在的，我们通常所说的无划痕一般指划痕在1微米以内，在光学显微镜下基本观测不到。

　　如何做到常规意义下的无划痕是很多金相从业者非常关心的问题，当然也是很抽象的问题，没有唯一的答案，消除划痕是一个系统性问题，需要从磨抛的各个细节着手，具体如下：

　　1.磨抛工序粒度搭配的合理性

　　磨抛的过程就是划痕逐级减小的过程，每道工序之间粒度跨度要设置恰当，太大则无法有效消除，太小则造成无谓的耗材浪费，比较经典的搭配是砂纸的粗磨和精磨，9微米磨盘，3微米粗抛，1微米精抛。当然根据各自的需求，也增加或删减工序，做到量身订制。

　　2.磨抛液的品质可靠性

　　样品表面的材料去除是靠磨粒来完成，磨抛液中的金刚石颗粒扮演两个角色，去除上道工序的粗划痕，为下道工序留下划痕。也就是说用细划痕来代替了粗划痕。因此磨抛液中磨粒的粒度控制要求很高，粒度分布必须控制在很窄的范围内，也是品质悬浮液的特点。

　　3.磨抛盘的交叉污染

　　磨抛盘是悬浮液磨粒的载体，并且重复使用，每道工序结束后表面都会有残留的金刚石磨粒。磨抛盘的粒度要明确限定，要杜绝可能造成的大颗粒磨粒混入，更加不可以交叉混用，这样会引起表面的异常划痕。

　　4.每个步骤的彻底清洗

　　清洗是防止划痕的最有效的办法，上道工序所遗留的大颗粒可能存在与样品表面，样品的缝隙，样品夹持器等部位，这些地方的残留都会是潜在风险源，必须要彻底清洗，必要时还需要超声波清洗。

　　以上几点就可以看出消除划痕是一项复杂的工程，需要设备和耗材的保驾护航，也需要养成严谨和细致的制样习惯。同时，借鉴专业人员的方法也至关重要，获取专业金相方案供应商的相关经验就可事半功倍。

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